SONORAとは
SONORA は、ASM International の 300mm 縦型炉（バッチ式熱処理装置）です。2つのリアクタと2つのボートを持つデュアルリアクタ・デュアルボート構成で、1バッチ最大 150 枚を処理します。
常圧プロセスでは拡散・不純物活性化、アニール、酸化を、減圧プロセスではポリシリコン・窒化膜・酸化膜の LPCVD を行えます。金属酸化膜・金属窒化膜のバッチ ALD にも対応しており、1台で幅広い熱処理・成膜工程をカバーします。
前世代機 A412（出荷 1,000 台超）とプロセス互換があり、既存レシピを移行しやすいのが特長です。生産性は A412 比で最大30%高く、フットプリントは縮小しています。独自のガス導入系によりバッチ全体の減圧成膜の均一性を確保し、ウェーハあたりのエネルギー・薬品使用量も減らしています。
主な特長
- •デュアルリアクタ・デュアルボート、最大 150 枚／バッチ
- •常圧（拡散・酸化・アニール）と減圧（LPCVD）の両方に対応
- •前世代 A412 比で生産性最大30%向上、レシピ互換
- •独自のガス導入系による減圧成膜のバッチ内均一性
主な仕様
| 対応ウェハ径 | 300 mm |
|---|---|
| バッチ処理枚数 | 最大 150 枚 |
| 常圧プロセス | 拡散・不純物活性化・アニール・酸化 |
| 減圧プロセス | LPCVD（Poly-Si・SiN・SiO）／バッチALD |
| 生産性 | 前世代機 A412 比 最大 30% 向上（レシピ互換） |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Kokusai Electric（国際電気）QUIXACE-II | 東京エレクトロン（TEL）TELINDY PLUS | ASMインターナショナルSONORA |
|---|---|---|---|
| 方式 | 縦型大バッチ | バッチ式（縦型炉） | — |
| 生産性 | 従来機比 最大 1.25 倍のロット処理 | — | 前世代機 A412 比 最大 30% 向上（レシピ互換） |
| 関連機種 | AdvancedAce-II・VERTEX Revolution（200 mm） | TELFORMULA・ALPHA-8SE i | — |
| 主要用途 | 酸化膜・CVD膜の形成 | 酸化・拡散・バッチ成膜 | — |
| 対応ウェハ径 | — | 300 mm | 300 mm |
1機種だけが掲載している項目（7件）
| 対応プロセス | 酸化・拡散・アニール（低温／高温） | — | — |
|---|---|---|---|
| 最大ロード | — | 125 枚 | — |
| プロセス温度 | — | RT ～ 1,100 °C | — |
| シリーズ構成 | — | TELINDY PLUS／TELINDY PLUS IRad（プラズマALD）／EVAROS | — |
| バッチ処理枚数 | — | — | 最大 150 枚 |
| 常圧プロセス | — | — | 拡散・不純物活性化・アニール・酸化 |
| 減圧プロセス | — | — | LPCVD（Poly-Si・SiN・SiO）／バッチALD |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ドーパント拡散・活性化、アニール、酸化
- •ドープト Si・SiN・TEOS の LPCVD
- •金属酸化膜・金属窒化膜のバッチ ALD
- •ロジック／ファウンドリ、メモリ、アナログ／パワーの各ライン
掲載カテゴリ
SONORAは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
ASMインターナショナル
ALD（原子層堆積）装置とエピタキシャル成長装置のグローバルリーダー。次世代ロジック・メモリプロセスに不可欠な高品質薄膜形成技術を提供。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-05