EXCEED3000AHとは
EXCEED3000AH シリーズは、日新イオン機器の中電流イオン注入装置です。ナノテクノロジーノードに対応した高い生産性とプロセス信頼性を備えるハイコストパフォーマンスモデルで、メーカーは業界最高の生産性を実現したとしています。
薄ウェーハを含む多様な基板に対応する搬送システムを備え、低エネルギーのビーム量を向上させています。平均オートチューン時間は 2 分未満と短く、ビームの立ち上げを素早く行えます。
エネルギーコンタミネーションの完全除去をうたい、水平・垂直の両方向のビーム角度フィードバックシステムと多点ファラデーシステムを搭載しています。前機種からの信頼性、プロセス互換性、パーツ互換性を維持した進化型です。
主な特長
- •薄ウェーハを含む多様な基板の搬送
- •平均オートチューン 2 分未満
- •水平・垂直のビーム角度フィードバック、多点ファラデー
- •前機種とのプロセス・パーツ互換
主な仕様
| 区分 | 中電流イオン注入装置 |
|---|---|
| 対応ウェハ径 | 300 mm |
| 系譜 | EXCEED2000（1994年）以来の中電流シリーズ |
| 関連機種 | EXCEED400HY（水素注入） |
| 主要用途 | 注入角度・エネルギー精度が要求される中ドーズ注入 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsVIISta 900XP | Axcelis TechnologiesPurion M | 日新イオン機器EXCEED3000AH | 住友重機械イオンテクノロジーMC3-Ⅱ(MC) |
|---|---|---|---|---|
| 区分 | 中電流イオン注入装置 | 中電流イオン注入装置 | 中電流イオン注入装置 | 中電流イオン注入装置 |
| 主要用途 | ウェル形成・しきい値調整などの精密注入 | ウェル・チャネル・HALO・ソースドレインの中ドーズ注入 | 注入角度・エネルギー精度が要求される中ドーズ注入 | ウェル形成・しきい値調整注入 |
| 関連機種 | VIISta 900 3D | — | EXCEED400HY（水素注入） | SAion（高電流／中電流一体型） |
| エネルギー範囲 | 300 keV（+ 価数）／600 keV（++ 価数） | 2 keV ～ 1 MeV | — | — |
1機種だけが掲載している項目（6件）
| 重視項目 | 精度・クリーンさ・生産性 | — | — | — |
|---|---|---|---|---|
| プラットフォーム | — | Purion（H／M／XE 共通） | — | — |
| スループット | — | 500 WPH（枚葉プラットフォーム） | — | — |
| 対応ウェハ径 | — | — | 300 mm | — |
| 系譜 | — | — | EXCEED2000（1994年）以来の中電流シリーズ | — |
| 特徴 | — | — | — | 操作性と信頼性を重視した設計 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •注入角度・エネルギー精度が要る中ドーズ注入
- •ウェル形成・しきい値調整
掲載カテゴリ
EXCEED3000AHは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
日新イオン機器
イオン注入装置の専業メーカーとして、中電流・高電流・超高エネルギーイオン注入装置を展開。パワー半導体・CMOS向けドーピング装置で高い技術力を誇る。
中電流イオン注入装置のほかの製品
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06