底部抗反射層（BARC：Bottom Anti-Reflective Coating）是在微影曝光時，為抑制來自光阻下方基板或表面形貌的光反射，而塗佈於光阻與基板之間的薄膜材料。可防止基板反射光在光阻內形成駐波，造成CD（Critical Dimension）變動與焦深裕度下降。
BARC的作用原理有2種：①最佳化BARC膜的光學常數（折射率n、消光係數k），抵消介面反射（利用干涉效應使反射歸零）；②在BARC膜內吸收光線以降低反射光量。最佳膜厚取決於曝光波長、基板材料與光阻的光學常數，通常設計在30～100nm的範圍。
材料分為有機BARC（旋轉塗佈型：有機高分子系）與無機BARC（CVD、ALD沉積型：SiO2、SiN、SiON）。有機BARC可藉由旋轉塗佈輕易形成、成本低，品項眾多，主要廠商為Brewer Science與AZ Electronic Materials（現為默克）。無機BARC可對表面形貌進行共形覆蓋，有利於高低差大的基板。
隨著轉向EUV微影，BARC的角色也在改變。在EUV（13.5nm）中，主要課題已從基板反射問題轉為EUV光阻的感度、LWR與隨機效應，因此正從傳統DUV用BARC，轉向與硬遮罩（HM）搭配的組合設計，或金屬氧化物光阻（MOR）專用的底層膜。
BARC的抗蝕刻性也是重要特性。以蝕刻將光阻圖案轉移到下層材料時，會先以光阻圖案為遮罩蝕刻BARC，再進行基板蝕刻（BARC開口蝕刻）。因此BARC的蝕刻速率、選擇比與蝕刻形狀（輪廓）也會影響整個微影製程。