ILT（Inverse Lithography Technology，逆向微影技術）是從想在晶圓上形成的圖形形狀反推，以計算求出最能重現該圖形的光罩形狀的技術。一般的思考方式是先決定光罩形狀，再計算會如何轉寫到晶圓上。ILT 則反向求解，從「希望在晶圓上這樣轉寫」的目標，以數學最佳化推導出光罩形狀。
以光轉寫微細圖形時，因為光的繞射與干涉，光罩的形狀無法原樣轉寫到晶圓上。修正這一點的是 OPC（光學鄰近效應修正），它會一點一點移動光罩圖形的邊，或加入小的輔助圖形。OPC 是依既定規則或模型逐步修正原始形狀的方法；ILT 則以光罩形狀可自由改變為前提尋找最佳解，因此會成為含曲線的複雜形狀（curvilinear）光罩，即使焦距或曝光量偏移，也能擴大穩定轉寫的範圍（製程窗口）。
ILT 的最佳化需要龐大的計算量，長期以來只用在部分關鍵層或熱點（hotspot）。隨著 GPU 等加速運算，以及能在短時間描繪曲線圖形的多電子束光罩寫入機普及，適用範圍正在擴大。也會與同時最佳化光源形狀與光罩的 SMO（光源光罩最佳化）搭配使用。
