光罩寫入機（電子束寫入）是什麼
光罩寫入機（電子束寫入機）是使用電子束（EB：Electron Beam），在空白光罩上以高精度寫入電路圖案的設備。這是製造支援 EUV・ArF 浸潤式曝光之最先進光罩不可或缺的設備，要求次奈米的位置精度。NuFlare Technology 在量產用電子束寫入機擁有全球最高市佔率，日本電子（JEOL）則在研究・試作用設備上具有優勢。
重點整理
以電子束（EB）在空白光罩上寫入奈米精度的圖案
製造支援 EUV・ArF 浸潤式光罩不可或缺的設備
NuFlare Technology 在量產用設備的全球市佔率居首
JEOL（日本電子）在研究・試作用設備上具有國際影響力
以 Multi-beam 寫入（IMS）提升產能的發展正在進行
常見問題
光罩寫入機是什麼？
光罩寫入機是使用電子束（EB）在光罩（Reticle）空白基板上寫入半導體電路圖案的設備。製造 EUV・ArF 浸潤式曝光用的最先進光罩不可或缺，要求奈米以下的位置精度。
光罩寫入機的主要廠商有哪些？
量產用電子束寫入機方面，NuFlare Technology（東芝・日立集團系）擁有全球最高市佔率。研究・試作用方面，日本電子（JEOL）具有競爭力，德國的 IMS Nanofabrication 也以多束寫入崛起。
為什麼 EUV 用光罩的寫入精度很重要？
EUV 曝光（NA=0.33）以 4倍縮小轉印到晶圓上，因此光罩上 1nm 的誤差會成為晶圓上 0.25nm 的誤差。而 High-NA EUV（NA=0.55）為 8倍縮小，對光罩上的精度要求更加嚴格。
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