光罩寫入機（mask writer）是利用電子束（EB：Electron Beam）在光罩基板上直接描繪電路圖案的設備。能以高於曝光機的解析度描繪，用於製作光罩圖案的母版。也用於製作EUV光罩與奈米壓印微影用模板。
NuFlare Technology（源自東芝）幾乎獨占量產用EB光罩寫入機的供應，日本電子（JEOL）也以補充角色參與市場。1台要價超過數十億日圓，屬於高價設備。
光罩寫入機以電子束（EB）在光罩基板上的光阻直接寫入電路圖案。由於不使用光而以電子束描繪，解析度高，能形成微細且複雜的光罩圖案，但每1片的寫入時間長是其課題。
為提高產能，同時使用大量電子束的多束光罩寫入機，已成為先進光罩（含EUV）的主流。NuFlare Technology幾乎獨占量產用EB光罩寫入機的供應，日本電子（JEOL）則扮演補充角色。