良率是什麼

良率是良品晶片占全部晶片的比例。良率越高,同樣的晶圓與設備能產出越多可出貨的晶片,是晶圓廠成本與獲利最直接的指標。

名稱

台灣
良率
中國大陸
良率/成品率
英文
Yield

良率的種類

依計算的階段不同,常見的有:晶圓廠內完成全部製程的晶圓比例(製程良率),晶圓針測時單一晶圓上良品晶粒的比例(晶粒良率),以及封裝後成品測試的良品比例(成品良率)。一般說「良率」多半指晶粒良率。

影響良率的因素

缺陷大致分為兩類:隨機缺陷,例如微粒污染,會隨機落在晶圓上;系統性缺陷,則與特定圖形、設計或製程條件有關,會重複出現在相同位置。

晶粒面積越大,落入缺陷的機率越高。在缺陷密度相同的情況下,大晶片的良率會比小晶片低,這也是大型晶片改用小晶片(chiplet)加先進封裝的原因之一。常用的簡化模型是 Y = e^(−A×D),A 為晶粒面積,D 為缺陷密度。

提升良率的方法

晶圓廠以缺陷檢測與量測找出問題發生在哪一道製程,再以統計製程管制(SPC)與先進製程控制(APC)縮小製程變異;設計端則以可製造性設計(DFM)避開容易出問題的圖形。新製程導入量產時,良率通常要經過一段時間的學習曲線才會穩定。

負責這項工作的職務是良率工程師(YE),需要與製程、設備、整合等單位密切合作。

相關設備・材料

相關企業

  • Lasertec(光罩・晶圓檢測設備)

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最後更新:2026-10-06