最後更新:2026年10月23日濕式蝕刻設備

SP-2100的特點與規格

SCREEN(斯庫林)・濕式蝕刻設備

支援 76~200mm Si・SiC・GaN・LiTaO₃ 等的單片式旋轉處理機。用於清洗・蝕刻・金屬蝕刻。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

SP-2100 是 SCREEN 的單片式旋轉處理機。承襲具豐富實績的取放(pick and place)式機械傳送,以單程傳送穩定地搬運晶圓。

除了矽之外,也支援 SiC、GaN、LiTaO₃ 等各種化合物晶圓,晶圓尺寸涵蓋 76mm 至 200mm。具備也能進行高溫強酸清洗・蝕刻的多工腔體,以及進行水洗與高速旋轉乾燥的乾燥腔體。

以選配的獨家終點感測器,可進行再現性高的金屬蝕刻。清洗工具可選擇 Nanospray 或 Softspray,也可為 CMP 後清洗等用途搭載表面刷洗。

主要規格

適用晶圓尺寸76~200 mm
適用基板Si・SiC・GaN・LiTaO₃ 等
腔體多工腔體(高溫強酸)・乾燥腔體

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

支援化合物晶圓
支援高溫強酸的腔體
終點感測器(選配)
多樣的清洗工具

主要用途

  • 化合物元件的清洗・蝕刻
  • 金屬蝕刻

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣迪恩士半導體科技(SCREEN SPE Taiwan)(新竹):1990 年成立的台灣子公司
  • 服務據點(林口・台中・台南):就近支援北部、中部與南部科學園區的晶圓廠

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資料來源

  1. SCREEN(斯庫林)官方產品頁面:SCREEN SP-2100