SP-2100 是 SCREEN 的單片式旋轉處理機。承襲具豐富實績的取放(pick and place)式機械傳送,以單程傳送穩定地搬運晶圓。
除了矽之外,也支援 SiC、GaN、LiTaO₃ 等各種化合物晶圓,晶圓尺寸涵蓋 76mm 至 200mm。具備也能進行高溫強酸清洗・蝕刻的多工腔體,以及進行水洗與高速旋轉乾燥的乾燥腔體。
以選配的獨家終點感測器,可進行再現性高的金屬蝕刻。清洗工具可選擇 Nanospray 或 Softspray,也可為 CMP 後清洗等用途搭載表面刷洗。
支援 76~200mm Si・SiC・GaN・LiTaO₃ 等的單片式旋轉處理機。用於清洗・蝕刻・金屬蝕刻。
SP-2100 是 SCREEN 的單片式旋轉處理機。承襲具豐富實績的取放(pick and place)式機械傳送,以單程傳送穩定地搬運晶圓。
除了矽之外,也支援 SiC、GaN、LiTaO₃ 等各種化合物晶圓,晶圓尺寸涵蓋 76mm 至 200mm。具備也能進行高溫強酸清洗・蝕刻的多工腔體,以及進行水洗與高速旋轉乾燥的乾燥腔體。
以選配的獨家終點感測器,可進行再現性高的金屬蝕刻。清洗工具可選擇 Nanospray 或 Softspray,也可為 CMP 後清洗等用途搭載表面刷洗。
| 適用晶圓尺寸 | 76~200 mm |
|---|---|
| 適用基板 | Si・SiC・GaN・LiTaO₃ 等 |
| 腔體 | 多工腔體(高溫強酸)・乾燥腔體 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。