SP-2100（スピンプロセッサ）
76〜200mm の Si・SiC・GaN・LiTaO₃ などに対応する枚葉式のスピンプロセッサ。洗浄・エッチング・メタルエッチングに使う。
SP-2100とは
SP-2100 は、SCREEN の枚葉式のスピンプロセッサです。豊富な実績のあるピックアンドプレース方式のメカニカル搬送を受け継ぎ、シングルパス搬送で安定してウェーハを運びます。
シリコンのほか、SiC、GaN、LiTaO₃ などさまざまな化合物ウェーハに対応し、ウェーハサイズは 76mm から 200mm までをカバーします。高温の強酸による洗浄・エッチングにも対応するマルチタスクチャンバと、水洗と高速スピン乾燥を行うドライタスクチャンバを持ちます。
オプションの独自のエンドポイントセンサーで、再現性の高いメタルエッチングができます。洗浄ツールとして Nanospray や Softspray を選べ、CMP 後洗浄などのために表面ブラシも搭載できます。
主な特長
- •化合物ウェーハに対応
- •高温強酸に対応するチャンバ
- •エンドポイントセンサー（オプション）
- •多彩な洗浄ツール
主な仕様
| 対応ウェハ径 | 76〜200 mm |
|---|---|
| 対応基板 | Si・SiC・GaN・LiTaO₃ など |
| チャンバ | マルチタスク（高温強酸）・ドライタスク |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | SCREENホールディングスSU-3300（枚葉式洗浄装置） | SCREENホールディングスSP-2100（スピンプロセッサ） | 東京エレクトロン（TEL）EXPEDIUS™-i（バッチ式洗浄装置） | Lam ResearchSP Series（SP203L／SP223／SP323） |
|---|---|---|---|---|
| 方式 | 枚葉式（薬液処理） | — | バッチ式（最大 50 枚／バッチ） | 枚葉ウェット処理（ベルヌーイチャック） |
| 対応ウェハ径 | — | 76〜200 mm | 300 mm | 150〜300 mm（極薄基板対応） |
| 主要用途 | ウェットエッチング・洗浄（高アスペクト比パターン） | — | SiN 選択ウェットエッチング・前後洗浄・レジスト剥離 | — |
1機種だけが掲載している項目（6件）
| チャンバー構成 | 最大 24 チャンバー（4段×6タワー） | — | — | — |
|---|---|---|---|---|
| 主な技術 | パターン倒壊を抑える乾燥技術・APAC2（チャンバー内気流制御） | — | — | — |
| 対応基板 | — | Si・SiC・GaN・LiTaO₃ など | — | — |
| チャンバ | — | マルチタスク（高温強酸）・ドライタスク | — | — |
| スループット | — | — | 1,000 wph | — |
| ラインアップ | — | — | — | SP203L・SP223・SP323 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •化合物デバイスの洗浄・エッチング
- •メタルエッチング
掲載カテゴリ
SP-2100は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
SCREENホールディングス
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
ウェットエッチング装置のほかの製品
SCREENホールディングスのほかの製品
DT-3000（SOKUDO DUO）（コータ／デベロッパ）SU-3300（枚葉式洗浄装置）（ウェットエッチング装置）FC-3100（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）SU-3200（枚葉式洗浄装置）（ウェット洗浄装置）LA-3100（フラッシュランプアニール装置）（レーザーアニール装置）SU-3400（レジスト剥離装置（ウェット））スピンスクラバ SS-3200（ウェハスクラバ）WS-620C／WS-820C／WS-820L（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）FC-821L（ウェットステーション）（バッチ洗浄装置）CW-2000（コンパクトウェットステーション）（バッチ洗浄装置）SU-2000（枚葉式洗浄装置）（シングルウェハ洗浄装置）SS-3300S（スピンスクラバ）（ウェハスクラバ）SS-80EX（スピンスクラバ）（ウェハスクラバ）SB-3300（ウェーハ裏面洗浄装置）（ウェハスクラバ）RF-200EX／RF-300EX（コータ・デベロッパ）（コータ／デベロッパ）SK-60EX／SK-80EX（コータ・デベロッパ）（コータ／デベロッパ）SC-80EX（スプレーコータ）（コータ／デベロッパ）RE-3500（エリプソ式膜厚測定装置）（エリプソメータ）VM-2500／VM-3500（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）VM-1200／VM-1300（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）VM-1020（光干渉式膜厚測定装置）（膜厚計測装置）ZI-3600（パターン付きウェーハ外観検査装置）（マクロ検査装置）ZI-2000（パターン付きウェーハ外観検査装置）（マクロ検査装置）DW-3100（直接描画露光装置）（レーザー直接描画装置）DR-8000（自動線幅測定装置）（マスク寸法・平面度測定装置）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07