最後更新:2026年10月23日MEMS

MA8 Gen5的特點與規格

SUSS MicroTec・MEMS

SUSS MicroTec 對應 200mm 的光罩對準曝光機,亦支援 SMILE 壓印技術,並可處理接合對準與熔融接合。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

MA8 Gen5 是 SUSS MicroTec 的光罩對準曝光機。為 2020 年發表的單機式壓印微影系統,設想用於臉部辨識、指紋辨識、迎賓投影燈(light carpet)、AR 等用途。

針對標準至先進・高階製程改良壓印處理功能,並以進一步強化的 SUSS 調平系統,更精密地維持壓模與基板的平行度。可處理至 200mm 的晶圓,運用 SUSS 的 SMILE 壓印技術,對應 LED、MEMS/NEMS、微光學、AR、光感測器等多樣的壓印用途。

以易用的設計、低成本與小占地面積,可用於研發至中・大規模生產。也能處理接合對準與熔融接合製程,除了作為單機使用外,也可作為模組整合至全自動叢集式設備用於量產。

主要規格

對應晶圓尺寸最大 200 mm
曝光方式光罩對準曝光機(支援壓印)
特點SUSS 調平系統・可整合至叢集式設備
主要用途MEMS・LED・微光學・光感測器

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

至 200mm 的光罩對準曝光機(支援壓印)
強化的 SUSS 調平系統
SMILE 壓印技術
亦對應接合對準・熔融接合

主要用途

  • MEMS/NEMS・微光學的圖案形成
  • LED・AR・光感測器的壓印

製造商

SUSS MicroTec(總部:德國)

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資料來源

  1. SUSS MicroTec 官方產品頁面:SUSS MA8 Gen5