CLEAN TRACK LITHIUS Pro V 是東京威力科創（TEL）支援 300mm 晶圓的塗佈顯影設備。進一步發展了廣受支持的 LITHIUS Pro 設計概念。
在進一步提高產能的同時，將設備整體效率（OEE：Overall Equipment Efficiency）提升到極致，使每 1 日的處理能力（Wafer Per Day）最大化。
也具備延伸至雙重圖形化技術等製程的擴充性，支援在最先進的半導體工廠中建構高效率的生產環境。另有 LITHIUS Pro V-i。
CLEAN TRACK LITHIUS Pro V的特點與規格
東京威力科創（TEL）・塗佈顯影機
將設備整體效率（OEE）提升到極致、使每 1 日處理能力最大化的 TEL 塗佈顯影設備。
產品概要
主要規格
| 方式 | 塗佈顯影（300mm） |
|---|---|
| 特點 | OEE 最大化・可延伸至雙重圖形化 |
| 相關機種 | LITHIUS Pro V-i |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
OEE 最大化
每 1 日處理能力最大化
可延伸至雙重圖形化
主要用途
- 浸潤式 ArF 的光阻塗佈・顯影
- 雙重圖形化
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣東京威力科創（新竹）：台灣子公司（1996 年成立）。設有訓練中心，並規劃擴建無塵室
- 台南營運中心（台南）：動工時預計 2024 年下半年完工，樓地板面積約 3.5 萬平方公尺，可容納近千名員工，負責零組件處理、技術服務與維修