CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V

装置の総合効率（OEE）を極限まで高め、1 日あたりの処理能力を最大化した TEL の塗布現像装置。

CLEAN TRACK LITHIUS Pro Vとは

CLEAN TRACK LITHIUS Pro V は、東京エレクトロン（TEL）の 300mm ウェーハ対応の塗布現像装置です。多くの支持を受けてきた LITHIUS Pro の設計コンセプトを発展させています。

スループットをさらに高めるとともに、装置の総合効率（OEE：Overall Equipment Efficiency）を極限まで高め、1 日あたりの処理能力（Wafer Per Day）を最大化しました。

ダブルパターニング技術などへのプロセス拡張性も備え、最先端の半導体工場で効率的な生産環境の構築を支えます。LITHIUS Pro V-i もあります。

主な特長

•OEE の最大化
•1 日あたりの処理能力を最大化
•ダブルパターニングに拡張可能

主な仕様

方式	塗布現像（300mm）
特徴	OEE の最大化・ダブルパターニングへの拡張性
関連機種	LITHIUS Pro V-i

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE	東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z	東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ AP	東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V	東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™	SCREENホールディングスDT-3000（SOKUDO DUO）	SCREENホールディングスRF-200EX／RF-300EX（コータ・デベロッパ）	SCREENホールディングスSK-60EX／SK-80EX（コータ・デベロッパ）	SCREENホールディングスSC-80EX（スプレーコータ）
対応ウェハ径	300 mm	300 mm	—	—	—	300 mm	150〜200 mm（RF-200EX）	—	100〜200 mm
方式	—	—	塗布現像（300mm）	塗布現像（300mm）	塗布現像（300mm）	—	—	塗布・現像	スプレー塗布（ウェーハ温調付き）
特徴	High-NA EUVプロセス向け欠陥制御技術	—	—	OEE の最大化・ダブルパターニングへの拡張性	OEE 向上・CoO 低減・省スペース	—	レジスト消費量・消費電力の削減	—	—
主要用途	先端リソグラフィのレジスト塗布・現像	レジスト塗布・現像・各種ベーク	先端パッケージング	—	—	—	—	—	—
関連機種	—	LITHIUS Pro AP（300 mm／200 mm対応）（派生機種）	—	LITHIUS Pro V-i	LITHIUS Pro-i	—	—	—	—
スループット	—	インライン 300 wph	—	—	—	450 枚／時以上	—	—	—
対応プロセス	—	EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC	—	—	—	液浸リソグラフィ・電子ビーム・DSA	—	—	—

1機種だけが掲載している項目（10件）

位置づけ	LITHIUS Pro Z の後継機	—	—	—	—	—	—	—	—
販売開始	2025年12月	—	—	—	—	—	—	—	—
対応ノード	—	10 nm 世代以降	—	—	—	—	—	—	—
対応材料	—	—	高粘度材料・Spin-on Hard Mask	—	—	—	—	—	—
構成	—	—	—	—	—	デュアルトラック（2プロセスライン並列）	—	—	—
運用	—	—	—	—	—	片ラインのメンテナンス中も生産継続が可能	—	—	—
対応薬液	—	—	—	—	—	—	レジスト・ポリイミド・SOC など（RF-300EX）	—	—
対応基板	—	—	—	—	—	—	—	薄ウェーハ・厚基板・ガラス・LT・サファイア・磁性材料基板など	—
互換性	—	—	—	—	—	—	—	60／80 シリーズとレシピ互換	—
ノズル	—	—	—	—	—	—	—	—	薬液用最大 2・溶剤用 1