Nova PRISM
分光干渉法(SI)で位相情報を加えた光学式 CD 計測プラットフォーム。機械学習によるモデリングを組み合わせる。
Nova PRISMとは
Nova PRISM は、Nova の光学式 CD(OCD)計測プラットフォームです。分光エリプソメトリー、分光反射率測定、分光干渉計測の3つの技術を組み合わせています。
中核となる分光干渉計測(SI)は、従来の OCD の能力を広げる技術と位置づけられています。複数のチャンネルから得る包括的なスペクトル情報で計測の堅牢性を高め、プロセスばらつきに強い計測を実現します。チャンネルは用途に合わせて選べます。
物理モデリングの Nova MARS と、機械学習の Nova Fit アルゴリズムを組み合わせ、計測性能と生産性を最適化します。新しいプラットフォームと光学設計で量産に必要なスループットを持ち、将来の技術進化にも対応できるモジュール設計です。ナノシートを使う先端ロジック、DRAM、3D NAND に使われます。
主な特長
- •分光エリプソ・分光反射・分光干渉の3技術
- •Nova MARS(物理モデル)と Nova Fit(機械学習)
- •量産向けの高スループットとモジュール設計
主な仕様
| 測定方式 | 分光干渉+分光反射+分光エリプソメトリー |
|---|---|
| 測定項目 | CD・形状(弱い感度のパラメータを含む) |
| 主要用途 | 成膜・エッチング工程のインライン管理 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLASpectraShape™ 12k | Onto InnovationAtlas® V | ノヴァ・メジャリング・インスツルメンツ(Nova)Nova PRISM |
|---|---|---|---|
| 測定方式 | 分光エリプソメトリー+反射率(多入射角・偏光) | DUV 4×4 ミュラー行列 SE+偏光垂直入射反射率 | 分光干渉+分光反射+分光エリプソメトリー |
| 測定項目 | CD・メタルゲートリセス・側壁角・レジスト高さ・ピッチウォーキング | CD・埋もれ構造・GAA のナノワイヤ個別寸法 | CD・形状(弱い感度のパラメータを含む) |
| 主要用途 | 先端ロジック・メモリの寸法管理 | GAA・3D NAND・DRAM の工程管理 | 成膜・エッチング工程のインライン管理 |
| 関連機種 | SpectraShape 11k/10K | Atlas G6(次世代機) | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ナノシートを使う先端ロジックの OCD
- •DRAM・3D NAND の寸法計測
掲載カテゴリ
Nova PRISMは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
ノヴァ・メジャリング・インスツルメンツ(Nova)
光学式膜厚計測・オーバーレイ計測装置の専業メーカー。イスラエル発のプロセス制御計測企業で、先端ロジック・メモリの歩留まり管理向け計測装置を供給する。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06