Onto Innovation/光学式寸法測定装置(OCD)

Atlas® G6

最先端のロジック・メモリ向けの OCD・薄膜計測装置。新しい光学系と AI によるレシピ開発を持つ。

Atlas G6とは

Atlas G6 は、Onto Innovation の OCD(光学 CD)・薄膜計測装置です。最先端のロジックとメモリ向けに設計され、次世代の AI 用途に向けて、光学系の強化、AI によるレシピ開発、装置間マッチングの改善を提供します。

次世代の GAA ノードや、次世代 HBM、縦型 DRAM への移行で、工程管理の要求は厳しくなっています。ナノシートが小さくなり DRAM セルが密になるほど、計測の精度、レシピ開発の速さ、装置間マッチングが求められます。

新しい光学設計で S/N 比、分光の安定性、計測精度を高めました。改良したソフトウェアとデータ管理でフリート全体の分光マッチングを高め、新しいデータチャネルと次世代のモデル誘導も備えています。

主な特長

  • •新しい光学設計
  • •AI によるレシピ開発
  • •フリート全体の分光マッチング

主な仕様

方式OCD(光学 CD)・薄膜計測
特徴新光学設計で S/N・分光安定性・精度を向上、AI によるレシピ開発
対象GAA・次世代 HBM・縦型 DRAM

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目KLASpectraShape™ 12kKLAAxion® T2000Onto InnovationAtlas® VOnto InnovationAtlas® G6Onto InnovationAtlas® III+Onto InnovationAspect®Onto InnovationAspect® Sノヴァ・メジャリング・インスツルメンツ(Nova)Nova PRISM
方式—X 線による CD・形状計測(非破壊)—OCD(光学 CD)・薄膜計測分光反射率+分光エリプソメトリ赤外光学 CD(IRCD)・非破壊モデルベース赤外反射率計測・非破壊—
測定項目CD・メタルゲートリセス・側壁角・レジスト高さ・ピッチウォーキング曲がり・反り・CD プロファイル・エッチング深さ・楕円度・傾きCD・埋もれ構造・GAA のナノワイヤ個別寸法————CD・形状(弱い感度のパラメータを含む)
主要用途先端ロジック・メモリの寸法管理3D NAND・DRAM の高アスペクト比構造GAA・3D NAND・DRAM の工程管理————成膜・エッチング工程のインライン管理
測定方式分光エリプソメトリー+反射率(多入射角・偏光)—DUV 4×4 ミュラー行列 SE+偏光垂直入射反射率————分光干渉+分光反射+分光エリプソメトリー
関連機種SpectraShape 11k/10K—Atlas G6(次世代機)—————
特徴———新光学設計で S/N・分光安定性・精度を向上、AI によるレシピ開発——小スポットでスクライブライン上を測定—
対象———GAA・次世代 HBM・縦型 DRAM—3D NAND・3D DRAM——
測定—————高アスペクト比構造の Z 方向プロファイルカーボンハードマスク・エッチング後 3D 構造の寸法・均一性—
1機種だけが掲載している項目(2件)
精度————サブ Å レベル———
ソフトウェア————Ai Diffract OCD 解析———

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •GAA ナノシートの計測
  • •HBM・縦型 DRAM の計測

掲載カテゴリ

Atlas G6は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Onto Innovation

Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。

Onto Innovation の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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