9000 系列是日立高新技術(Hitachi High-Tech)的導體蝕刻設備。20nm 世代以後的元件需要高精度且複雜的製程,例如對應雙重圖案化、3D 結構與新材料的後處理及保護膜形成。
統一介面,使其可搭載高精度模組化的各類腔體,提供對應最先進元件、具擴充性與彈性的製程。可將已有實績的日立微波 ECR 方式蝕刻腔體等模組化,並以共通介面整合。
以最多可搭載 9 個腔體的連結式平台,以及日立獨家的低異物・高速傳送系統,實現高生產力。
可搭載最多 9 座模組化各類腔體的日立高新技術(Hitachi High-Tech)300mm 導體蝕刻設備。針對 20nm 世代以後。
9000 系列是日立高新技術(Hitachi High-Tech)的導體蝕刻設備。20nm 世代以後的元件需要高精度且複雜的製程,例如對應雙重圖案化、3D 結構與新材料的後處理及保護膜形成。
統一介面,使其可搭載高精度模組化的各類腔體,提供對應最先進元件、具擴充性與彈性的製程。可將已有實績的日立微波 ECR 方式蝕刻腔體等模組化,並以共通介面整合。
以最多可搭載 9 個腔體的連結式平台,以及日立獨家的低異物・高速傳送系統,實現高生產力。
| 方式 | 微波 ECR 電漿蝕刻 |
|---|---|
| 對應晶圓尺寸 | 300 mm |
| 設備組成 | 最多 9 個腔體(連結式平台) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
日立高新技術(Hitachi High-Tech)(總部:日本)