最後更新:2026年10月23日光學式晶圓檢測設備

DI2800的特點與規格

日立高新技術(Hitachi High-Tech)・光學式晶圓檢測設備

日立以散射強度模擬最佳化照明・偵測光學系統的暗視野式晶圓缺陷檢測設備。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

DI2800 是日立高新技術(Hitachi High-Tech)的暗視野式晶圓缺陷檢測設備。在稱為 G&C 元件(Green & Communication 元件)、以 φ100~200mm 晶圓製造的 SAW/BAW 濾波器、MEMS 與感測器、功率・類比元件等的製造工序中,偵測並管理圖形樣品上的缺陷。

以散射強度模擬技術最佳化照明與偵測光學系統,以高靈敏度檢測製造途中有圖形晶圓上的缺陷。偵測靈敏度相當於鏡面晶圓上 0.1µm 的標準粒子。

也能檢測 0.3mm 見方的極小晶片,並透過檢測流程最佳化,在 200mm 晶圓缺陷檢測中每小時處理 40 片以上。支援 φ100/150/200mm 的有圖形・無圖形晶圓,用於產線的製程監控與良品篩選(screening)。

主要規格

檢測方式暗視野
對象工序200 mm 以下的有圖形晶圓
特點0.1 µm 靈敏度・每小時 40 片以上
主要用途IoT・車用元件的全數檢測

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

日立高新技術獨家的暗視野檢測方式
在鏡面晶圓上偵測 0.1µm 標準粒子
每小時 40 片以上(200mm)
支援 φ100/150/200mm、有圖形・無圖形

主要用途

  • SAW/BAW・MEMS・感測器・功率・類比元件的缺陷管理
  • 製程監控・良品篩選

製造商

日立高新技術(Hitachi High-Tech)(總部:日本)

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資料來源

  1. 日立高新技術(Hitachi High-Tech)官方產品頁面:DI2800