Kiyo 是科林研發的導體蝕刻用產品系列。導體蝕刻是形塑電晶體閘極與矽溝槽等元件中電氣上「主動」材料的製程，些微的尺寸差異就會左右性能。
藉由對稱的腔體設計、靜電吸盤技術與獨立的製程調整功能，取得高均勻性與再現性。獨家的 Hydra 技術可補正前段圖形化的差異以提高 CD 均勻性，Corvus 則調整電漿鞘層以提高晶圓外圍晶粒的良率。
藉由原位（in-situ）蝕刻、連續電漿與無晶圓自動清潔，即使是多層膜也能維持低缺陷・高生產力。也支援電漿 ALE（原子層蝕刻），能以量產等級的產能進行原子尺度的差異控制。系列包括 Versys Kiyo、Kiyo45、Kiyo C／E／F／G 系列。