Enlight 3 Optical Inspection的特點與規格

Enlight 3 是應用材料（Applied Materials）的明場光學式缺陷檢測設備。晶圓廠成本上升使檢測步驟數受到限制，同時在最先進電晶體中，致命缺陷與雜訊愈來愈難區分。

以具備市場最高數值孔徑（NA）的光學系統進行高解析度掃描，並以獨家的 3D 偏光控制抑制源自晶圓的雜訊。同時使用明場與灰場檢測通道，以 1 次掃描收集大量資料。

結合高解析度與 AI 演算法，在確保檢測靈敏度與頻率的同時加快良率爬升，並降低每片晶圓的成本。