29xx シリーズ（2965／2950 EP）

広帯域プラズマ照明のパターン付きウェーハ欠陥検査装置。2965 は GAA のナノシート欠陥、2950 EP は 3D NAND・DRAM に対応する。

29xx シリーズとは

29xx シリーズの 2965 と 2950 EP は、KLA の広帯域プラズマ照明を使うパターン付きウェーハの欠陥検査装置です。ロジックとメモリで歩留まりに効く欠陥を見つけます。

Super・Pixel モードなどの強化した広帯域プラズマ照明と高度な検出アルゴリズムで、さまざまな工程層、材料、積層で重要な欠陥を捉える感度を持ちます。2965 はナノシートの重要な欠陥を捉えられる波長帯を持ち、GAA トランジスタの立ち上げと生産を支えます。2950 EP はハードウェア、アルゴリズム、欠陥分類の改良で 3D NAND と DRAM の欠陥発見と監視を支えます。

インライン監視の業界標準として、感度と光学検査の速さを組み合わせ、低い所有コストで欠陥の発見から特徴づけまでを速く行います。

主な特長

•広帯域プラズマ照明
•2965 は GAA ナノシートに対応
•2950 EP は 3D NAND・DRAM 向け
•インライン監視の業界標準

主な仕様

方式	広帯域プラズマ照明の光学式欠陥検査
ラインアップ	2965・2950 EP
特徴	Super・Pixel モード・高度な検出アルゴリズム

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	KLA39xx シリーズ	KLA29xx シリーズ（2965／2950 EP）	KLAC30x シリーズ	KLACastor™	日立ハイテクDI2800	Onto InnovationDragonfly® G3	CamtekEagle G5	Applied MaterialsComPLUS™ 5P Optical Inspection	Applied MaterialsEnlight™ 3 Optical Inspection	Applied MaterialsHawkEye™ Optical Inspection	Applied MaterialsVera® Optical Inspection
検査方式	明視野（広帯域プラズマ・超解像 DUV）	—	—	—	暗視野	2D／3D 光学検査（IR 内部欠陥検査）	明視野 0.5 µm／暗視野 0.3 µm の表面欠陥検査＋3D 計測	暗視野・グレー視野・明視野の同時検出	明視野＋グレー視野の同時検出	暗視野（DUV レーザー）	明視野＋グレー視野（DUV レーザー）
主要用途	10 nm 未満の欠陥検出・EUV 確率的欠陥の発見	—	—	—	IoT・車載デバイスの全数検査	1 µm に迫る RDL・HBM 向けの検査	マルチ RDL・FOWLP・2.5D の検査	ICAPS・成熟ロジックの欠陥検査	先端ロジック・メモリの工程管理	—	—
特徴	—	Super・Pixel モード・高度な検出アルゴリズム	NanoPoint で信頼性リスクの高いパターンに集中	薄膜封止工程での埋もれ欠陥の高さ計測	0.1 µm 感度・40 枚／時以上	—	スループット 2 倍・多層 RDL を 1.4 µm L/S まで検査	—	市場最高の開口数・3D 偏光制御・AI アルゴリズム	—	—
対象工程	前工程（先端ロジック・DRAM・3D NAND）	—	—	—	200 mm 以下のパターン付きウェーハ	先端パッケージ・特殊デバイス	先端パッケージ（HPC・CIS・SiC）	—	—	—	—
方式	—	広帯域プラズマ照明の光学式欠陥検査	波長可変の広帯域プラズマ照明の光学式検査	パターン付きウェーハ検査＋レビュー＋3D 計測	—	—	—	—	—	—	—
対象	—	—	—	OLED on Silicon（OLEDoS）マイクロディスプレイ	—	—	—	—	—	2nm までのロジック・メモリ、ICAPS	成熟ノードの ICAPS デバイス

1機種だけが掲載している項目（6件）

関連機種	29xx シリーズ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
ラインアップ	—	2965・2950 EP	—	—	—	—	—	—	—	—	—
対応ウェハ径	—	—	200／300 mm	—	—	—	—	—	—	—	—
対象ノード	—	—	—	—	—	—	—	90nm 未満	—	—	—
検出対象	—	—	—	—	—	—	—	—	—	パーティクル・パターン欠陥・スクラッチ・突起	—
ベース	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	Enlight プラットフォーム