HawkEye 是應用材料(Applied Materials)的暗場光學式檢測設備,可檢測圖案化晶圓,找出微粒、圖案缺陷、刮傷、突起等缺陷。
用於蝕刻、CMP、薄膜沉積、微影、離子佈植等步驟之後。以 DUV 雷射光源提升靈敏度與處理速度,可檢測記憶體與邏輯的鰭片、GAA 層與導線層,最小至 2nm。也支援物聯網・通訊・車用・功率・感測器(ICAPS)的多種元件。
據廠商表示,組合使用明場與暗場檢測是具成本效益之良率管理的關鍵,而 HawkEye 以低持有成本壓低整體檢測成本。
使用 DUV 雷射的暗場圖案化晶圓檢測設備,支援至 2nm 的邏輯・記憶體與 ICAPS 元件。
HawkEye 是應用材料(Applied Materials)的暗場光學式檢測設備,可檢測圖案化晶圓,找出微粒、圖案缺陷、刮傷、突起等缺陷。
用於蝕刻、CMP、薄膜沉積、微影、離子佈植等步驟之後。以 DUV 雷射光源提升靈敏度與處理速度,可檢測記憶體與邏輯的鰭片、GAA 層與導線層,最小至 2nm。也支援物聯網・通訊・車用・功率・感測器(ICAPS)的多種元件。
據廠商表示,組合使用明場與暗場檢測是具成本效益之良率管理的關鍵,而 HawkEye 以低持有成本壓低整體檢測成本。
| 檢測方式 | 暗場(DUV 雷射) |
|---|---|
| 檢出對象 | 微粒・圖案缺陷・刮傷・突起 |
| 對象 | 至 2nm 的邏輯・記憶體、ICAPS |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。