Producer Etch 是應用材料的蝕刻設備。採用專利的 Twin Chamber 設計，是面向 90nm 以下需要高生產力之蝕刻用途、可靠度高且具成本效益的量產機。
最多可搭載 3 個 Twin Chamber，以 2 FOUP・雙機械手臂的工廠介面取得最高的處理密度，同時保有與單一腔體同等的性能與製程控制。各 Twin Chamber 可在 1 片處理與 2 片處理之間切換。
可調整電極間距以最佳化蝕刻速率、均勻性與光阻選擇比。藉由電漿侷限、原位清潔與耐電漿的高純度材料，量產時的濕式清潔間隔達 500 RF 小時以上。