化學品供應系統（CDS：Chemical Delivery System）是將清洗、蝕刻、CMP、顯影所使用的化學品，從儲槽穩定供應至各設備使用點，並維持濃度、溫度與潔淨度的晶圓廠基礎設施設備。排除以桶裝手動供應的方式，透過集中管理的管路網路輸送，既能降低作業人員暴露於化學品的風險，又能使供應品質均一。
處理的化學品種類繁多，包括硫酸（H₂SO₄）、過氧化氫（H₂O₂）、氫氟酸（HF）、氨水（NH₄OH）、鹽酸（HCl）、IPA、顯影液（TMAH）、CMP研磨液等。各化學品的材料相容性不同，因此管路以PFA、PTFE等氟樹脂為基本，為避免金屬污染，盡量不使用金屬管路。
系統由大宗儲槽、調配單元（混合、稀釋）、循環幫浦、過濾器與供應閥箱（VMB）構成。像混酸這類在現場調配的化學品，會以比重計或超音波濃度計進行線上濃度管理，自動修正與目標濃度的偏差。化學品在循環管路中持續流動，以防止滯留造成的溫度不均與微粒沉降。
研磨液供應是CDS中難度特別高的領域。CMP研磨液容易發生磨粒凝聚，凝聚粒子會在晶圓上造成刮傷。需要結合低剪切幫浦（隔膜／波紋管幫浦）與使用點過濾器，以不破壞磨粒的方式輸送。
供應端由栗田工業、Organo等水處理與化學品相關的工程企業，以及設備廠商體系的基礎設施部門負責。與廢液回收、再生、處理設備一併設計，是直接關係到晶圓廠環境負荷與營運成本的領域。