氣體供應設備・大宗氣體設施是什麼

氣體供應設備・大宗氣體設施是儲存晶圓廠所用氣體，並在保持純度的情況下輸送到各設備的設施。氮、氧、氬、氫等大宗氣體從室外儲槽或現場製造設備經由高純度管路網路供應；矽烷、氨等特殊材料氣體則經由氣瓶櫃（VMB/VMP）個別分配。更換鋼瓶時不捲入大氣的吹淨（purge）程序、殘壓監控與自動切換是基本功能；供應一旦中斷整座晶圓廠就會停擺，因此以冗餘配置為前提。