ガス供給装置・バルクガス設備メーカー6社
ガス供給装置・バルクガス設備は、ファブが使うガスを貯蔵し、純度を保ったまま各装置へ届ける設備です。窒素・酸素・アルゴン・水素といったバルクガスは屋外のタンクや現地製造設備から高純度配管網で供給され、シランやアンモニアなどの特殊材料ガスはガスキャビネット（VMB/VMP）を経て個別に分配されます。ボンベ交換時に大気を巻き込まないパージシーケンス、残圧監視、自動切替が基本機能で、供給が止まればファブ全体が停止するため冗長構成が前提になります。
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主要特徴
バルクガスをタンク・現地製造設備から高純度配管網で供給する
特殊材料ガスはガスキャビネットを経て個別分配される
ボンベ交換時のパージシーケンスと自動切替が基本機能
供給停止はファブ全停止に直結するため冗長構成が前提
メーカー
6社の主要メーカー
エア・リキード（Air Liquide）フランス
産業ガス・特殊ガスのグローバル大手メーカー。半導体製造に不可欠な高純度プロセスガス（成膜・エッチング用）とガス供給インフラを世界的に展開する。
特殊ガス
高純度プロセスガスガス供給インフラ
- •特殊ガスでグローバルトップクラス
- •高純度ガス供給インフラに強み
Air Products米国
産業ガス・特殊ガスの世界大手。半導体向けにはWF₆・NF₃・GeH₄・特殊エッチングガスなど、成膜・エッチング・クリーニングの全工程を支える。
エッチングガス
NF₃F₂HF
成膜ガス
WF₆GeH₄NH₃
クリーニングガス
C₂F₆CF₄
- •半導体向け特殊ガスのグローバルトップサプライヤー
- •Fabオンサイト供給システムによる安定ガス供給
大陽日酸（Taiyo Nippon Sanso）日本
日本最大の産業ガスメーカー（三菱ケミカルグループ傘下）。半導体向け超高純度特殊ガス（SiH₄・HF・BF₃・Cl₂等）・超純液体窒素・液体ヘリウムを供給。世界20カ国以上に特殊ガス製造・供給拠点を持つ。
特殊ガス
SiH₄（モノシラン）超高純度N₂・O₂・Ar・H₂BF₃（イオン注入源ガス）
- •半導体向け特殊ガスで日本最大のサプライヤー
- •超高純度ガス（Grade 6N以上）の製造・分析技術
エア・ウォーター日本
産業ガスを中核とする国内大手。窒素・酸素・水素などのバルクガスに加え、半導体プロセス向けの各種特殊ガスや、オンサイト供給設備・ガス供給配管システムを手掛ける。
産業ガス
高純度窒素水素アルゴン
特殊ガス・設備
半導体用特殊ガスオンサイト供給設備ガス供給配管
- •バルクガスと特殊ガスの両方を供給
- •オンサイト発生設備によるファブ向け供給体制
エア・リキード（半導体）フランス
フランスの産業ガス世界大手。半導体製造に使われる超高純度特殊ガス（フッ素・NF3・N2O・H2など）を供給。Lindeと並ぶ二大電子材料ガスメーカーの一角。
特殊ガス
NF3（チャンバークリーニング）超高純度F2N2OWF6
- •超高純度NF3（クリーニングガス）・フッ素・希少ガス供給で世界トップ
- •Air Products・Lindeと並ぶ産業ガス三強の一角
Entegris米国
半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア（FOUP）・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。
CMPスラリー・パッド
Optima CMPスラリー研磨パッド
フィルタ・精製装置
超純水フィルタガス精製器
ウェハ搬送材料
FOUPウェハシッパー
- •半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ（CMC Materials統合後）
- •超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理