最後更新:2026年10月23日混合鍵合設備

Kinex Die-to-Wafer Hybrid Bonding System的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・混合鍵合設備

應用材料與 Besi 共同開發的整合型 D2W 混合鍵合機。將表面處理・接合・量測整合於1台。

目錄6 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 常見問題
  5. 製造商與在台據點
  6. 資料來源

產品概要

Kinex 是應用材料與 BE Semiconductor Industries(Besi)共同開發的晶粒對晶圓(D2W)混合鍵合整合系統。針對 HPC、AI 加速器、HBM 等堆疊記憶體所要求的良率・精度・擴充性,專為量產而設計。

最大特點是將表面處理、接合、量測等混合鍵合全部步驟整合於1台。整合濕式清洗、電漿活化與原位(in-situ)量測,即時控制疊對。對小晶片化所帶來的等待時間(Q-time)管理與以晶粒為單位的可追溯性等課題,也以智慧排程器與 AIx 軟體因應。

支援單層・多層接合流程,並已在矽、III-V 族、玻璃基板上驗證性能。未來藍圖包括強化接合荷重、原位退火與擴大量測整合。

主要規格

接合方式D2W 混合鍵合
配置將濕式清洗・電漿活化・原位量測整合於1台
適用基板矽・III-V 族・玻璃
共同開發BE Semiconductor Industries(Besi)
主要用途3D IC・HBM・共封裝光學(CPO)・感測器整合

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

將表面處理・接合・量測整合於1台的 D2W 混合鍵合機
以濕式清洗・電漿活化・in-situ 量測即時控制疊對
等待時間管理・晶粒單位可追溯性・多重分級
已在矽・III-V 族・玻璃基板上驗證

主要用途

  • 3D IC・先進邏輯
  • HBM 等堆疊記憶體
  • 共封裝光學(CPO)・感測器整合・微型顯示器

Kinex Die-to-Wafer Hybrid Bonding System的常見問題

什麼是 D2W 混合鍵合?
將單粒化的晶粒不使用凸塊,直接接合到另一片晶圓上電路的方式。由於銅電極之間與介電膜之間同時接合,能以比微凸塊更窄的間距連接導線。

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Kinex
  2. 應用材料(Applied Materials)官方新聞稿:Applied Materials