最後更新:2026年10月23日光罩塗佈顯影機

Sigmameltec CTS Mask Coat Series的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・光罩塗佈顯影機

光罩用光阻塗佈設備。管理從前處理到塗佈・烘烤的過程,塗佈均勻性約 1nm(3σ)。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Sigmameltec CTS 是應用材料(原 Sigmameltec)的光罩用光阻塗佈設備。由於光罩的 CD 均勻性始於光阻塗佈品質,因此細緻管理空氣潔淨度・溫度・濕度、表面前處理、塗佈與旋轉,乃至塗佈後烘烤。

對光罩基板進行前處理以提高附著性,並細緻控制塗佈與旋轉程式,取得約 1nm(3σ)的塗佈均勻性。塗佈腔具有 3 種光阻用的手臂,也可追加。

具備以 CO₂ 水進行的噴射式超音波預清洗、172nm UV 處理、邊緣光阻去除、配備去除胺類濾網的 Class 1 腔體,以及自動溶劑沖洗。選配可進行 HMDS 處理,以及塗佈防止電子束寫入時帶電的導電層。

主要規格

製程在光罩基板上塗佈光阻
塗佈均勻性約 1nm(3σ)
主要功能超音波(megasonic)預清洗・172nm UV 處理・邊緣光阻去除・Class 1 腔體

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

塗佈均勻性約 1nm(3σ)
3 種光阻手臂
超音波預清洗・172nm UV 處理
Class 1 腔體

主要用途

  • 光罩的光阻塗佈
  • 電子束寫入用導電層塗佈

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Sigmameltec CTS