光罩塗佈顯影機是什麼

光罩塗佈顯影機是對空白光罩進行光阻塗佈，以及在電子束寫入後進行顯影的設備。原理與晶圓用的塗佈顯影機相同，但對象是 6吋見方的石英基板，因此單片傳送・固定機構與塗佈均勻性的確保需要專用設計。光阻膜厚的差異會直接造成寫入尺寸的變動，因此需要精密控制塗佈條件與烘烤溫度。顯影後的光罩會交付至蝕刻製程。

重點整理

負責空白光罩的光阻塗佈與寫入後的顯影

對象是 6吋見方的石英基板，需要專用的傳送・固定機構

光阻膜厚的差異直接造成寫入尺寸的變動

塗佈條件與烘烤溫度的精密控制決定 CD 精度

光罩清洗・乾燥設備是去除附著在光罩（Reticle）表面之微粒、有機汙染、霧化（Haze）的設備。

光罩蝕刻設備是以經過電子束寫入與顯影的光阻圖案為遮罩，蝕刻空白光罩上的鉻膜或相位移膜（MoSi），形成最終遮光圖案的設備。

光罩尺寸・平坦度量測設備是量測完成之光罩的圖案尺寸（CD）、位置精度（Registration）與基板平坦度的設備。

光罩修補設備是以原子・奈米等級去除、修補製造後光罩（Reticle）上缺陷的設備。

光罩倉儲系統（Reticle Stocker）是將光罩（Reticle）保管在潔淨環境中，並依曝光機的需求自動出庫的保管・傳送系統。

光罩寫入機（電子束寫入機）是使用電子束（EB：Electron Beam），在空白光罩上以高精度寫入電路圖案的設備。