最後更新:2026年10月23日光罩塗佈顯影機

Sigmameltec SFD Mask Develop Series的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・光罩塗佈顯影機

光罩顯影設備。將顯影腔與最終沖洗腔分開,在濕潤狀態下傳送光罩以防止缺陷。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Sigmameltec SFD 是應用材料的光罩用顯影設備。為維持經塗佈・曝光・烘烤所建立的 CD 均勻性,將顯影液均勻且同時供應至光罩全面。

將顯影與最終沖洗分為 2 個腔室,避免藥液混合。光罩在載液(濕潤)狀態下於腔室間傳送,防止中途乾燥產生缺陷。

以寬幅狹縫噴嘴均勻流出顯影液,並以回饋控制流量,提高 CD 線性度。使腔壁平滑並以 2 段高度處理,防止液體回濺。

主要規格

製程光罩的顯影・沖洗
配置顯影腔與最終沖洗腔 2 腔
特點寬幅狹縫噴嘴・流量回饋控制

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

分離顯影腔與最終沖洗腔
濕潤狀態下傳送光罩
寬幅狹縫噴嘴
防止液體回濺

主要用途

  • 光罩的顯影

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

所屬設備分類

相關用語

同分類的其他機型

應用材料(Applied Materials)的其他機型

資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Sigmameltec SFD