最後更新:2026年10月23日光罩塗佈顯影機

Sigmameltec SFB Mask Bake Series的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・光罩塗佈顯影機

使用化學增幅型光阻之光罩的曝光後烘烤(PEB)設備。使光罩全面的溫度與時間履歷一致。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Sigmameltec SFB 是應用材料的光罩用烘烤設備。在使用化學增幅型光阻的光罩製造中,完成曝光所引發化學反應的曝光後烘烤(PEB)之溫度與時間,左右最終圖案尺寸。

SFB 在均勻的烘烤空間中設置周邊溫區,並以氣流微調。不只穩態溫度,連升溫與降溫的溫度・時間履歷,都設計成在光罩任一點上一致。

以 2 個烘烤模組可增加處理量,或對應 2 種烘烤溫度。迅速移至帕爾帖元件冷卻板以終止反應。也可與光罩寫入機線上連接,使曝光到烘烤的時間一致。

主要規格

製程曝光後烘烤(PEB)
配置雙烘烤模組・帕爾帖冷卻板
特點以周邊溫區與 N₂ 氣流微調溫度分布

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

使光罩全面的溫度・時間履歷一致
雙烘烤模組
帕爾帖冷卻板
與寫入機線上連接

主要用途

  • 光罩的曝光後烘烤

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials Sigmameltec SFB