Sigmameltec SFB 是應用材料的光罩用烘烤設備。在使用化學增幅型光阻的光罩製造中,完成曝光所引發化學反應的曝光後烘烤(PEB)之溫度與時間,左右最終圖案尺寸。
SFB 在均勻的烘烤空間中設置周邊溫區,並以氣流微調。不只穩態溫度,連升溫與降溫的溫度・時間履歷,都設計成在光罩任一點上一致。
以 2 個烘烤模組可增加處理量,或對應 2 種烘烤溫度。迅速移至帕爾帖元件冷卻板以終止反應。也可與光罩寫入機線上連接,使曝光到烘烤的時間一致。
使用化學增幅型光阻之光罩的曝光後烘烤(PEB)設備。使光罩全面的溫度與時間履歷一致。
Sigmameltec SFB 是應用材料的光罩用烘烤設備。在使用化學增幅型光阻的光罩製造中,完成曝光所引發化學反應的曝光後烘烤(PEB)之溫度與時間,左右最終圖案尺寸。
SFB 在均勻的烘烤空間中設置周邊溫區,並以氣流微調。不只穩態溫度,連升溫與降溫的溫度・時間履歷,都設計成在光罩任一點上一致。
以 2 個烘烤模組可增加處理量,或對應 2 種烘烤溫度。迅速移至帕爾帖元件冷卻板以終止反應。也可與光罩寫入機線上連接,使曝光到烘烤的時間一致。
| 製程 | 曝光後烘烤(PEB) |
|---|---|
| 配置 | 雙烘烤模組・帕爾帖冷卻板 |
| 特點 | 以周邊溫區與 N₂ 氣流微調溫度分布 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。