VIISta 3000XP 是應用材料（前 Varian）的單片式高能量離子佈植機。以具實績的 Varian 雙磁鐵單片式架構為基礎，具備先進高能量佈植所需的角度精度。
在 65nm 之後的節點，以往批次式高能量佈植機的極限，會在高能量製程中造成元件性能問題。要取得量產所需的精密角度控制、劑量控制與生產力，就需要單片式架構。
開發時以提升金屬汙染性能為目標，有助於 CMOS 影像感測器技術。也適合作為中電流機的備援。使用與在中電流市場居領先地位的 VIISta 900XP 相同的單片式終端站、劑量量測系統與晶圓定位系統。