FPA-1200NZ2C 是佳能（Canon）的奈米壓印半導體製造設備。不像投影曝光那樣以光燒製電路，而是採用奈米壓印微影（NIL），將刻有電路圖形的光罩（模具）像蓋印章一樣壓在晶圓上的光阻進行轉印。
最小線寬為 14nm，可支援相當於 5nm 節點的邏輯製造。由於不經光學系統，複雜的 2 維・3 維電路圖形也能以 1 次壓印形成。因不受光源波長限制，與投影曝光機相比可大幅降低功耗與 CO₂ 排放，也能降低 CoO（持有成本）。
以新開發的環境控制技術抑制微粒的產生與混入。規格為壓印範圍 26×33mm、6 吋光罩、300mm 晶圓、疊對精度 4nm 以下。除邏輯・記憶體外，用途也擴展到 XR 用超穎透鏡（metalens）等微細結構的製造。