KLA/オーバーレイ計測装置

Archer™ 750

波長可変光源を持つ KLA のイメージング方式オーバーレイ計測装置。7nm 以下のロジックと先端メモリの重ね合わせ誤差を計測する。

Archer 750とは

Archer 750 は、KLA のイメージング方式オーバーレイ(重ね合わせ)計測装置です。下の層と上の層のパターンが正しく重なっているかを、専用のターゲットパターンを撮像して測ります。波長可変の光源を持ち、7nm 以下のロジックと先端メモリのノードで、正確でプロセスに強く生産性の高い計測を行います。

オーバーレイ誤差の計測結果は露光装置にフィードバックされ、次のウェーハの露光補正に使われます。マルチパターニングや EUV の導入で許容される重ね合わせ誤差は数 nm まで小さくなっており、計測の精度とサンプリング数の両方が求められます。

KLA の Archer シリーズには、後継の Archer 800(層ごとに波長を最適化し、rAIM ターゲットで実デバイスとの相関を高めた)、10nm 以下向けの Archer 600 などがあり、散乱計測方式の ATL100 や、パワー・特殊デバイス向けの Archer Power もそろえています。

主な特長

  • •イメージング方式のオーバーレイ計測
  • •波長可変光源
  • •7nm 以下ロジック・先端メモリに対応

主な仕様

測定方式イメージングベース・オーバーレイ計測
対象世代7nm 以下ロジック・先端メモリ
特徴波長可変光源
関連機種Archer 800(後継)・ATL100(散乱計測方式)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •製品上のオーバーレイ制御・インラインモニタ
  • •露光装置(スキャナー)の認定

掲載カテゴリ

Archer 750は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

KLA

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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