最後更新:2026年10月23日批次式清洗設備

ZETA+的特點與規格

東京威力科創(TEL)・批次式清洗設備

東京威力科創的批次噴灑式清洗設備。以高溫藥液處理的 ViPR+ 技術,在短時間內剝除光阻或矽化物等膜。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

ZETA+ 是東京威力科創的批次噴灑式清洗設備。能有效率且彈性地同時因應光阻、矽化物等膜的剝除與一般清洗,出貨實績眾多。

透過可進行高溫藥液處理的獨家 ViPR+ 技術,在短時間內剝除光阻・矽化物・其他膜,實現高性能・高生產力・低成本的製程。也可用於 FEOL/BEOL 的蝕刻後清洗、RCA 清洗、DHF 濕式蝕刻等。

有支援 300/200mm 的全自動機 ZETA+200/300,以及支援 200/150mm 的半自動機共2種機型。全自動機具備微環境(mini-environment)機構並支援 FOUP/SMIF,可對密閉式單一腔體供應最多 8 種藥液,混合比・濃度・溫度可透過配方設定。與單片式清洗設備相比更具經濟性。

主要規格

適用晶圓尺寸200/300 mm(Semi-auto 為 150/200 mm)
方式批次噴灑式(密閉單一腔體,藥液最多 8 種)
產能450 wph(200 mm)/230 wph(300 mm)
主要用途光阻・金屬剝除、蝕刻後清洗、RCA 清洗、DHF 蝕刻

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

以高溫藥液處理的 ViPR+ 技術高速剝除
密閉單一腔體,最多 8 種藥液
全自動(200/300mm)與半自動(150/200mm)2種機型

主要用途

  • 光阻・矽化物・金屬的剝除
  • FEOL/BEOL 蝕刻後清洗、RCA 清洗、DHF 濕式蝕刻

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣東京威力科創(新竹):台灣子公司(1996 年成立)。設有訓練中心,並規劃擴建無塵室
  • 台南營運中心(台南):動工時預計 2024 年下半年完工,樓地板面積約 3.5 萬平方公尺,可容納近千名員工,負責零組件處理、技術服務與維修

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資料來源

  1. 東京威力科創(TEL)官方產品頁面:ZETA+