FC-3100（ウェットステーション）

SCREEN のバッチ式ウェットステーション。高速搬送とバッファモジュールで毎時 1,000 枚を処理し、減圧乾燥システム HiLPD でウォーターマークとパターン倒壊を抑える。

FC-3100とは

FC-3100 は、SCREEN セミコンダクターソリューションズのバッチ式ウェットステーションです。ウェーハをキャリアごと薬液槽に浸して洗浄する方式で、高スループットバッファモジュールと高速搬送モジュールにより毎時 1,000 枚の高い生産性を実現しています。

信頼性を高めるため、装置本体を 7 つの独立したモジュールに分けて組み合わせるシンプルな構造を採用しています。各モジュールは標準化された独立構造で、洗浄槽 2 槽を 1 モジュールとしたコンパクトな設計のため、組み立てから調整、検査、搬入までをスムーズに行えます。

乾燥には減圧乾燥システム HiLPD を搭載しています。キャリア N₂ なしで高濃度の IPA を供給できるため、ウォーターマークを大きく抑えられます。高濃度 IPA で表面張力を素早く下げることで、パターン倒壊も防ぎます。

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	SCREENホールディングスFC-3100（ウェットステーション）	東京エレクトロン（TEL）ZETA™+（バッチスプレー式洗浄装置）
方式	バッチ式ウェットステーション	バッチスプレー式（密閉シングルチャンバー、薬液最大 8 種）
スループット	1,000 枚／時	450 wph（200 mm）／230 wph（300 mm）

1機種だけが掲載している項目（4件）

構成	7 つの独立モジュール（洗浄槽 2 槽で 1 モジュール）	—
主な技術	減圧乾燥システム HiLPD（高濃度 IPA）	—
対応ウェハ径	—	200／300 mm（Semi-auto は 150／200 mm）
主要用途	—	レジスト・メタル剥離、ポストエッチ洗浄、RCA 洗浄、DHF エッチ

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。