承襲 LITHIUS Pro Z 產品概念的 300mm 晶圓塗佈顯影設備。搭載針對 High-NA EUV 超微細圖形化的缺陷控制技術。
目錄5 項
- 產品概要
- 主要規格
- 主要特點
- 製造商與在台據點
- 資料來源
產品概要
CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE 是東京威力科創支援 300mm 的塗佈顯影機最新機種。負責光阻塗佈、顯影與各種烘烤,與曝光機以線上方式連接使用。
支援含 High-NA 在內的 EUV 製程,可處理 EUV・浸潤式・ArF・KrF・i-line・SOC 各製程。產能為線上 440wph,是系列中最高的數值。搭載缺陷控制技術,並強化了設備資料的收集功能。
LITHIUS 系列是承襲高市占率 CLEAN TRACK ACT 系列技術的產品群,以提升 OEE(整體設備效率)與降低 CoO(持有成本)為核心概念。前一機種 LITHIUS Pro Z 針對 10nm 節點以下,產能為線上 300wph。
主要規格
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
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| 定位 | LITHIUS Pro Z 的後繼機 |
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| 特點 | 針對 High-NA EUV 製程的缺陷控制技術 |
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| 開始銷售 | 2025年12月 |
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| 主要用途 | 先進微影的光阻塗佈・顯影 |
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規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要用途
- EUV・High-NA EUV 製程的光阻塗佈・顯影・烘烤
- 浸潤式 ArF 等先進微影
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣東京威力科創(新竹):台灣子公司(1996 年成立)。設有訓練中心,並規劃擴建無塵室
- 台南營運中心(台南):動工時預計 2024 年下半年完工,樓地板面積約 3.5 萬平方公尺,可容納近千名員工,負責零組件處理、技術服務與維修