最後更新:2026年10月23日塗佈顯影機

CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE的特點與規格

東京威力科創(TEL)・塗佈顯影機

承襲 LITHIUS Pro Z 產品概念的 300mm 晶圓塗佈顯影設備。搭載針對 High-NA EUV 超微細圖形化的缺陷控制技術。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE 是東京威力科創支援 300mm 的塗佈顯影機最新機種。負責光阻塗佈、顯影與各種烘烤,與曝光機以線上方式連接使用。

支援含 High-NA 在內的 EUV 製程,可處理 EUV・浸潤式・ArF・KrF・i-line・SOC 各製程。產能為線上 440wph,是系列中最高的數值。搭載缺陷控制技術,並強化了設備資料的收集功能。

LITHIUS 系列是承襲高市占率 CLEAN TRACK ACT 系列技術的產品群,以提升 OEE(整體設備效率)與降低 CoO(持有成本)為核心概念。前一機種 LITHIUS Pro Z 針對 10nm 節點以下,產能為線上 300wph。

主要規格

適用晶圓尺寸300 mm
定位LITHIUS Pro Z 的後繼機
特點針對 High-NA EUV 製程的缺陷控制技術
開始銷售2025年12月
主要用途先進微影的光阻塗佈・顯影

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

支援含 High-NA 在內的 EUV 製程
線上 440wph(系列最高)
強化缺陷控制技術與設備資料收集功能

主要用途

  • EUV・High-NA EUV 製程的光阻塗佈・顯影・烘烤
  • 浸潤式 ArF 等先進微影

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣東京威力科創(新竹):台灣子公司(1996 年成立)。設有訓練中心,並規劃擴建無塵室
  • 台南營運中心(台南):動工時預計 2024 年下半年完工,樓地板面積約 3.5 萬平方公尺,可容納近千名員工,負責零組件處理、技術服務與維修

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資料來源

  1. 東京威力科創(TEL)官方產品頁面:LITHIUS