塗佈顯影機（Coater/Developer）是將光阻的旋轉塗佈（spin coat）與曝光後的顯影（develop）整合為一體的叢集式設備（cluster tool）。它與掃描式曝光機（scanner）線上連接，自動且高速地處理光阻塗佈→曝光→顯影這一連串的微影步驟。也簡稱為塗佈顯影設備。
塗佈步驟中，將光阻液滴在高速旋轉的晶圓上，以離心力形成數十～數百 nm 的均勻薄膜。塗佈前以 HMDS（六甲基二矽氮烷）處理提升附著性。顯影步驟中，經過曝光後烘烤（PEB）後，以 TMAH（四甲基氫氧化銨）水溶液形成光阻圖形。
主要設備廠商東京威力科創（TEL）的 CLEANTRACK 系列占全球市場約80～90%，擁有壓倒性的市占率。因應 EUV 曝光的高感度 EUV 光阻處理，以及因應 SAQP（自對準四重圖案化）等多層製程，是最新機型的主要課題。