NS300Z 是東京威力科創（TEL）適用 300mm 晶圓的刷洗清洗設備，以超純水（DIW）進行刷洗清洗。
採用二流體噴霧（AS2：Atomized Spray 2）與刷洗技術，最多可搭載 8 個旋轉模組。產能每小時最多 1,000 片，為舊機型的 200%。
具備防止晶圓間交叉汙染的功能，也支援面向次世代元件的傳送。可因應微縮與元件結構 3 維化所帶來日益複雜的清洗要求。
NS300Z的特點與規格
東京威力科創（TEL）・晶圓刷洗機
TEL 適用 300mm 的刷洗清洗設備。採用具實績的製程模組，提高生產力。
產品概要
主要規格
| 清洗方式 | 刷洗・二流體噴霧（AS2） |
|---|---|
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
| 配置 | 支援正面・背面清洗 |
| 主要用途 | 晶圓正反面的微粒去除 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
二流體噴霧（AS2）＋刷洗
最多 8 個旋轉模組
每小時最多 1,000 片（舊機型的 200%）
主要用途
- 晶圓正反面的微粒去除
- 次世代元件的清洗製程
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣東京威力科創（新竹）：台灣子公司（1996 年成立）。設有訓練中心，並規劃擴建無塵室
- 台南營運中心（台南）：動工時預計 2024 年下半年完工，樓地板面積約 3.5 萬平方公尺，可容納近千名員工，負責零組件處理、技術服務與維修