Minimal Fab（迷你晶圓廠）是什麼
Minimal Fab（迷你晶圓廠）是使用直徑 0.5 英吋的迷你晶圓與局部潔淨化技術，不使用無塵室即可製造半導體、適合少量多樣的生產方式。由日本產業技術總合研究所提出，設備寬度統一為 294mm，各設備內建 PFC（局部潔淨空間），因此不需要大規模的無塵室投資。採用以 1 片晶圓製作 1 種元件的概念，鎖定試作及感測器、功率半導體等多樣少量領域，壓縮初期投資與開發期間。
重點整理
以 0.5 英吋迷你晶圓與局部潔淨化，免除無塵室
設備寬度統一為 294mm，各設備內建 PFC
以 1 片晶圓製作 1 種元件、適合少量多樣的方式
在試作、感測器、功率半導體領域壓縮初期投資與開發期間
常見問題
Minimal Fab 與一般 300mm 晶圓廠有何不同？
300mm 晶圓廠是在大尺寸晶圓上製作大量晶片，以量產規模降低成本的方式。Minimal Fab 則以 0.5 英吋晶圓與局部潔淨化大幅壓低設備投資，目標是在短期間內完成少量多樣生產與試作，兩者目的不同。
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