ミニマルファブメーカー8社

ミニマルファブは、直径0.5インチのミニマルウェハと局所クリーン化技術を用い、クリーンルームを使わずに半導体を製造する少量多品種向けの生産方式です。産業技術総合研究所が提唱し、装置の幅は294mmに統一され、各装置がPFC(局所クリーン空間)を内蔵するため大規模なクリーンルーム投資が不要になります。1枚のウェハから1種類のデバイスを作る考え方により、試作やセンサ・パワー半導体など多品種少量の領域で初期投資と開発期間の圧縮を狙う方式です。

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主要特徴

0.5インチのミニマルウェハと局所クリーン化でクリーンルーム不要
装置幅を294mmに統一し各装置がPFCを内蔵する
1枚のウェハから1種類のデバイスを作る少量多品種向けの方式
試作・センサ・パワー半導体で初期投資と開発期間を圧縮する

よくある質問

ミニマルファブは通常の300mmファブと何が違いますか?▾
300mmファブは大口径ウェハに多数のチップを作り込み、量産規模でコストを下げる方式です。ミニマルファブは0.5インチウェハと局所クリーン化により設備投資を大幅に抑え、少量多品種の生産や試作を短期間で回すことを狙う、目的の異なる方式です。

メーカー

8社の主要メーカー

DISCO日本

「切る・削る・磨く」技術の世界的リーダー。ダイシングソー、グラインダで市場トップシェアを持ち、超薄ウェーハ加工の完全ソリューションを提供。

ダイシング装置
ダイシングソーレーザソー
グラインダ
ウェーハグラインダ
研磨装置
表面平坦化装置
  • •ダイシングソー、グラインダで世界トップシェア
  • •超薄ウェーハ加工の完全ソリューション
会社詳細
堀場製作所日本

分析・計測機器の国内大手メーカー。半導体製造向けにはガス分析計・パーティクルカウンタ・分光エリプソメータなど、プロセス管理に不可欠な計測機器を展開する。

分析・計測装置
ガス分析計パーティクルカウンタ分光エリプソメータ
  • •分析・計測機器で国内大手
  • •半導体プロセス向けガス分析に強み
会社詳細
横河電機日本

産業用計測・制御システムの国内大手メーカー。半導体ファブ向けにはプローバー関連装置やプロセス計測機器を含む幅広い計測・制御ソリューションを展開する。

計測・制御機器
プロセス計測機器ウェハプローバー関連装置
  • •産業計測・制御システムで国内大手
  • •半導体ファブ向け計測機器を展開
会社詳細
CKD日本

空圧・流体制御機器の大手。半導体分野では超高純度ガス用バルブ、薬液用の耐薬品バルブ・ポンプ、ガスユニットを供給し、装置内の流体制御を支える。

流体制御機器
高純度ガスバルブ薬液用バルブ・ポンプガスユニット
  • •空圧機器と流体制御機器の総合ラインナップ
  • •半導体向け高純度・耐薬品バルブ
会社詳細
フジキン(Fujikin)日本

超高純度対応のバルブ・継手・レギュレータを手掛ける流体制御機器メーカー。半導体プロセスガス向けのダイヤフラムバルブや、MFCを組み込んだガスボックス(ガスパネル)をユニットで供給する。

流体制御機器
ダイヤフラムバルブガスボックス(ガスパネル)レギュレータ
  • •超高純度(UHP)流体制御機器の設計技術
  • •ダイヤフラムバルブ・継手で高いシェア
会社詳細
SPPテクノロジーズ日本

住友精密工業から分社した装置メーカー。シリコン深掘りエッチング装置(DRIE)とプラズマCVD装置を主力とし、MEMS・パワーデバイス・TSV形成など高アスペクト比加工の用途に強い。

エッチング装置
シリコン深掘りエッチング装置(DRIE)
成膜装置
プラズマCVD装置
  • •シリコン深掘りエッチング(DRIE)の専業メーカー
  • •MEMS・TSVなど高アスペクト比加工の実績
会社詳細
光洋サーモシステム日本

ジェイテクトグループの熱処理装置メーカー。半導体向けの縦型拡散炉・横型拡散炉、ランプアニール装置などを供給し、酸化膜形成や不純物拡散、活性化アニールの工程を支える。

拡散炉
縦型拡散炉横型拡散炉酸化炉
急速熱処理
ランプアニール装置RTP装置
  • •縦型・横型の拡散炉を自社で設計製造
  • •ランプ加熱による急速熱処理(RTP)に対応
会社詳細
不二越機械工業日本

ラッピングマシン・ポリッシングマシンを主力とする装置メーカー。シリコンウェハの両面研磨機や片面研磨機を供給し、ウェハの平坦度・厚みばらつきを決める工程を支える。

研磨装置
両面ラッピングマシン両面ポリッシングマシン片面研磨機
  • •両面ラップ・両面ポリッシュ機の専業メーカー
  • •大径ウェハの平坦度を作り込む加工ノウハウ
会社詳細

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