Pulsar 是 ASM 的 ALD 反應器。這款設備支撐了電晶體閘極改用鉿系 High-k 介電層的轉換，目前用於滿足 FinFET 等先進 3D 電晶體結構所要求的性能。
反應腔與前驅物供應系統經過最佳化，能精密控制氣流並將吹淨（purge）時間降到最短，實現高度的製程控制、薄膜純度與均勻性。採用低容積的等溫反應器，以層流的橫流設計最佳化地輸送 ALD 脈衝。
支援膜特性優於液態前驅物的固態前驅物氣體供應，精密控制從固體到氣體的轉換。ASM 300mm XP 共通平台的 XP4 叢集式平台最多可搭載 4 個 Pulsar 模組。