A400 DUO 是 ASM 針對 200mm 以下晶圓的批次式立式爐。主要鎖定功率、類比、RF、MEMS 元件市場。將大量晶圓裝入爐中同時進行熱處理，因此生產力高。
與原本的 A400 相容，既有製程配方可輕鬆移轉，能加快導入量產。常壓熱處理可進行摻雜物擴散與活化、退火、氧化，LPCVD 可沉積多晶矽、氮化矽、氧化矽。
採具備 2 個反應爐的配置，在使處理量最大化的同時，將昂貴的晶圓廠樓地板面積降到最小。也可進行連續處理：將第 1 個反應爐處理完的晶圓，在無氧的受控環境中移至第 2 個反應爐進行另一道處理。使用 2 個晶舟，充分發揮反應爐的利用率。