EmerALD 是 ASM 的 ALD 反應器，以噴灑頭分配製程氣體，將氣體均勻送達晶圓表面。
縮小噴灑頭與晶圓腔的容積，針對 ALD 進行最佳化，提高產能。可使用直接電漿與遠端電漿兩種方式，擴大製程的控制範圍。
藉由遠端電漿的腔體清潔功能，在許多製程中延長清潔間隔，提高稼動率。ASM 的 XP 共通平台最多可搭載 4 個 EmerALD 模組。
XP4 EmerALD的特點與規格
ASM International・ALD 設備
以噴灑頭（showerhead）均勻供應氣體的 ASM ALD 反應器，用於金屬閘極層與電容電極。
產品概要
主要規格
| 方式 | ALD（噴灑頭・直接／遠端電漿） |
|---|---|
| 構成 | XP 叢集式平台最多搭載 4 個模組 |
| 主要用途 | 金屬閘極層・低溫氧化膜・電容電極 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
以噴灑頭均勻供應氣體
直接／遠端電漿
原位（in-situ）腔體清潔
主要用途
- 金屬閘極層
- 低溫氧化膜
- 電容電極
製造商
ASM International（總部：荷蘭）
所屬設備分類
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