TWINSCAN XT:260 是艾司摩爾的雙載台 i 線曝光機。在具備掃描式曝光機成像精度的同時,提供高產出量。
與既有解決方案相比,生產力最高達 4 倍的 i 線掃描式曝光機,在全曝光區給予高劑量的同時,每小時處理 270 片。能以更少的晶圓廠面積製造更多晶片。
高劑量是以 2 倍縮小(而非 4 倍)的新型高穿透率投影光學系統實現。NA 可在 0.25~0.35 間調整。可具成本效益地用於影像感測器、顯示器、光子學等新技術,以及含先進封裝在內的 3D 整合製造。
生產力最高達既有設備 4 倍的 i 線掃描式曝光機。每小時 270 片,用於影像感測器與先進封裝。
TWINSCAN XT:260 是艾司摩爾的雙載台 i 線曝光機。在具備掃描式曝光機成像精度的同時,提供高產出量。
與既有解決方案相比,生產力最高達 4 倍的 i 線掃描式曝光機,在全曝光區給予高劑量的同時,每小時處理 270 片。能以更少的晶圓廠面積製造更多晶片。
高劑量是以 2 倍縮小(而非 4 倍)的新型高穿透率投影光學系統實現。NA 可在 0.25~0.35 間調整。可具成本效益地用於影像感測器、顯示器、光子學等新技術,以及含先進封裝在內的 3D 整合製造。
| 光源 | i 線(汞燈) |
|---|---|
| 投影光學系統 | 可變 NA 0.25~0.35・2 倍縮小 |
| 產出量 | 每小時 270 片(340 mJ/cm²) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。