TWINSCAN XT:400M的特點與規格

TWINSCAN XT:400M 是艾司摩爾（ASML）的雙載台 i 線乾式曝光機。以晶圓全面 20nm 以下的疊對，在 200mm 與 300mm 晶圓上曝光。

為 XT:400L 的後繼機型，面向成熟製程市場提高生產力。改良不需變更製程，因此容易導入晶圓廠，從舊設備升級也能沿用既有程序啟用。

與 XT:400L 相同，以選配硬體可達 220nm 解析度。以光學鏡柱改良等最新光學技術提高穿透率。