NSR-2205iL1 是尼康（Nikon）縮小投影倍率 5 倍的 i-line 步進機。成本效益優異，不挑晶圓材料，用於功率半導體、通訊用半導體、MEMS 等各種元件的生產。
支援各種晶圓尺寸、厚度與翹曲，也能切換晶圓尺寸。搭載可擴大焦深範圍的 Wide DOF 與多點 AF，強化對化合物半導體製程的支援。選配可支援透明晶圓、2～8 吋晶圓，以及 IR 穿透式背面對準。
與尼康既有的 i-line 曝光機相容性高，可沿用光罩與配方，也適合汰換更新。解析度 350nm 以下、NA 0.45、最大曝光範圍 22 × 22mm，同一機台的疊對精度（SMO）為 70nm 以下（皆為套用選配時）。