i-line 步進機（i-line Stepper）是以汞燈明線光譜中的 i-line（波長 365nm）為光源的縮小投影曝光設備。自 1980 年代開始普及，在微細加工方面雖不及現代的 ArFi、EUV 曝光機，但因設備成本低、可靠度高，至今仍廣泛用於 MEMS、功率半導體、類比 IC、感測器、顯示器驅動 IC 等成熟節點（0.35μm～數 μm）的產線。
i-line 的波長 365nm 比 KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）長，解析度的實用下限約為 0.35～0.5μm。此解析度雖無法對應最先進的邏輯晶片或 DRAM，但對於電路線寬約 1μm 上下的功率 MOSFET、IGBT、類比 IC、車用感測器，i-line 步進機就能確保足夠的精度。
「步進機（stepper）」這個名稱，源自一面讓晶圓載台步進移動、一面將晶圓各部分以每次 1 個曝光區（shot）逐一曝光的方式（Step and Repeat）。現代最先進設備以「掃描機（scanner）」方式（Step and Scan：光罩與晶圓同步掃描）為主流，但 i-line 設備中舊式的步進方式仍在線上運轉。
i-line 步進機活躍的主要領域：MEMS（加速度感測器・壓力感測器・微鏡）、SiC 功率元件、化合物半導體（GaAs・GaN）、類比／混合訊號 IC、晶圓代工的 200mm（8 吋）產線等。尤其隨著汽車與工業用電子設備的快速成長，200mm 產線的設備需求再度增加。
主要廠商方面，尼康（NSR-i14G 等）與佳能（FPA-3030EX6 等）長年引領 i-line 步進機市場，艾司摩爾也有部分產品線。設備使用年限長（15～25年以上），二手市場也相當活絡。