乾式清洗設備是什麼

乾式清洗（Dry Cleaning）是使用電漿或氣體去除晶圓表面污染的乾式製程。方法包括以電漿灰化去除光阻（ashing）、以 HF 氣體蒸氣去除氧化膜，以及 UV 照射等。與濕式清洗相比不會產生廢液，環境負荷低，且可對微細的 3D 元件結構進行選擇性處理。在先進節點的 FinFET 與 GAA 型電晶體清洗上，需求日益增加。

重點整理

使用電漿・氣體・UV 的乾式清洗製程
無廢液、環境負荷低，與無塵室的相容性高
以電漿灰化完全去除光阻殘留物
可對微細的 3D 元件結構進行選擇性處理
在 FinFET・GAA 型電晶體清洗上的需求擴大

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