H83/H84 是愛發科(ULVAC)的臥式擴散爐。為擁有 30 年以上實績、可靠度高的設備,用於 200mm 矽晶圓的擴散、熱氧化、退火等熱處理。
1 台機台可選擇不同製程,3 層・4 層配置可節省安裝空間。5 區加熱器各自獨立控制,溫度控制的均溫性與穩定性優異。採自家製控制系統,操作簡單且可靠。
可進行熱氫氧(pyrogenic)氧化、濕式氧化、乾式氧化、使用三氯氧磷(POCl₃)或三溴化硼(BBr₃)的磷擴散・硼擴散、退火等處理。常用溫度為 600~1,200℃,均溫性為 ±1.0℃。
擁有 30 年以上實績的臥式擴散爐。用於 200mm 矽晶圓的擴散・熱氧化・退火。
H83/H84 是愛發科(ULVAC)的臥式擴散爐。為擁有 30 年以上實績、可靠度高的設備,用於 200mm 矽晶圓的擴散、熱氧化、退火等熱處理。
1 台機台可選擇不同製程,3 層・4 層配置可節省安裝空間。5 區加熱器各自獨立控制,溫度控制的均溫性與穩定性優異。採自家製控制系統,操作簡單且可靠。
可進行熱氫氧(pyrogenic)氧化、濕式氧化、乾式氧化、使用三氯氧磷(POCl₃)或三溴化硼(BBr₃)的磷擴散・硼擴散、退火等處理。常用溫度為 600~1,200℃,均溫性為 ±1.0℃。
| 方式 | 臥式擴散爐(3 層/4 層配置) |
|---|---|
| 晶圓尺寸・處理片數 | ~200mm・50/125 片 |
| 溫度 | 常用 600~1,200℃・均溫性 ±1.0℃(5 區獨立控制) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
愛發科(ULVAC)(總部:日本)