最後更新:2026年10月23日擴散爐

H83/H84的特點與規格

愛發科(ULVAC)・擴散爐

擁有 30 年以上實績的臥式擴散爐。用於 200mm 矽晶圓的擴散・熱氧化・退火。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

H83/H84 是愛發科(ULVAC)的臥式擴散爐。為擁有 30 年以上實績、可靠度高的設備,用於 200mm 矽晶圓的擴散、熱氧化、退火等熱處理。

1 台機台可選擇不同製程,3 層・4 層配置可節省安裝空間。5 區加熱器各自獨立控制,溫度控制的均溫性與穩定性優異。採自家製控制系統,操作簡單且可靠。

可進行熱氫氧(pyrogenic)氧化、濕式氧化、乾式氧化、使用三氯氧磷(POCl₃)或三溴化硼(BBr₃)的磷擴散・硼擴散、退火等處理。常用溫度為 600~1,200℃,均溫性為 ±1.0℃。

主要規格

方式臥式擴散爐(3 層/4 層配置)
晶圓尺寸・處理片數~200mm・50/125 片
溫度常用 600~1,200℃・均溫性 ±1.0℃(5 區獨立控制)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

30 年以上實績
5 區獨立控制加熱器
3 層/4 層配置節省空間

主要用途

  • 矽晶圓的擴散・熱氧化・退火

製造商

愛發科(ULVAC)(總部:日本)

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資料來源

  1. 愛發科(ULVAC)官方產品頁面:H83 H84