最後更新：2026年10月23日擴散爐

TELINDY PLUS的特點與規格

東京威力科創（TEL）・擴散爐

東京威力科創（TEL）支援 300mm 晶圓的批次式熱處理設備。以立式爐一次處理從氧化・擴散到成膜的主力平台。

目錄6 項

產品概要

TELINDY PLUS 是東京威力科創（TEL）支援 300mm 晶圓的批次式熱處理設備。TELINDY 系列累計出貨超過1萬台，特點是單位無塵室面積的生產力高。

最大裝載量為 125 片，製程溫度為室溫～1,100°C。支援的應用範圍廣泛，包括 ALD（SiO₂・SiN・High-k）、CVD（Poly-Si・a-Si・SiO₂・SiN）、氧化・自由基氧化及退火，並透過晶圓傳送機構的改良、FTPS 加熱器與 2 晶舟運作縮短 TAT，提升生產力。

在同一平台上搭載電漿源的 TELINDY PLUS IRad，是用於無電漿損傷之極低溫 ALD（SiN・SiO₂）的衍生機種。系列中還有一次可處理 200 片、CO₂ 排放減少約25%的 EVAROS，以及高速升降溫的 TELFORMULA。

方式	批次式（立式爐）
適用晶圓尺寸	300 mm
最大裝載量	125 片
製程溫度	RT ～ 1,100 °C
系列組成	TELINDY PLUS／TELINDY PLUS IRad（電漿 ALD）／EVAROS
相關機種	TELFORMULA・ALPHA-8SE i
主要用途	氧化・擴散・批次成膜

規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。

最多 125 片的批次處理，製程溫度 RT～1,100°C

以1個平台涵蓋 ALD・CVD・氧化・退火

2 晶舟運作・FTPS 加熱器縮短 TAT

TELINDY 系列累計超過1萬台的實績

TELINDY PLUS 與 TELINDY PLUS IRad 有何不同？

IRad 是在 TELINDY PLUS 平台上搭載電漿源的機種，用於無電漿損傷的極低溫 ALD-SiN・ALD-SiO₂ 成膜。最高製程溫度 TELINDY PLUS 為 1,100°C，IRad 為 800°C。

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