擴散爐是什麼
擴散爐（Diffusion Furnace）是將多片晶圓（數十～百片以上）排列在石英管內，在高溫（600～1200°C）環境氣體中同時進行熱處理的批次式熱處理設備。用於熱氧化（Si→SiO₂）、CVD（LPCVD）、退火、雜質擴散等製程，透過大量處理實現高產能與低成本。國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC：原日立國際電氣）、東京威力科創（TEL）、ASM 為主要廠商。
重點整理
同時批次處理數十～百片，實現高產能・低成本
用途多元，包括熱氧化・LPCVD（CVD 成膜）・雜質擴散・退火
在成熟節點仍是主力，但先進節點因熱預算限制轉向 RTP
國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC）・TEL・ASM 為全球主要 3 家廠商
以立式爐為主流，兼顧減少占地面積與提升均勻性
常見問題
什麼是擴散爐？
擴散爐是在石英管內同時對多片晶圓進行熱處理的批次式設備。用於熱氧化膜形成、LPCVD 成膜、雜質熱擴散、退火等多種製程，特點是每 1 批可處理數十～百片以上的高生產性。
擴散爐的主要廠商有哪些？
國際電氣（KOKUSAI ELECTRIC：原日立國際電氣）、東京威力科創（TEL）、ASM International 是全球市場的主要供應商。特別是國際電氣與 TEL 在批次式立式爐擁有很高的市占率。
擴散爐與 RTP 如何區分使用？
擴散爐的特點是以大量批次處理實現低成本・高產能，但處理時間長、熱預算大。在先進節點（28nm 以下），為抑制雜質熱擴散會優先採用 RTP 或單片式處理，但在成熟節點・LPCVD 成膜・熱氧化方面，擴散爐至今仍是主力。
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